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Pattern Resin + Stand

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Résine pour maquette à faible rétraction

PATTERN RESIN LS est un matériau éprouvé pour une large gamme dʼindications au laboratoire et au fauteuil.

Outre les applications principales, cette résine unique pour maquette est adaptée à de nombreuses situations spécifiques du quotidien. La thixotropie de la résine se traduit par une fluidité et des propriétés de manipulation idéales. Sa mouillabilité élevée permet un mélange et une application des plus faciles.


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Pattern Resin + Stand

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Résine pour maquette à faible rétraction

PATTERN RESIN LS est un ...

 

 

Garanties sécurité

 

Livraison rapide

 

Retour gratuit

Indications :

Outre toutes les indications traditionnelles des résines pour maquettes, PATTERN RESIN LS fournit des résultats supérieurs dans les applications suivantes : tous types dʼattachements, couronnes coniques et télescopiques, suprastructures dʼimplants, techniques de transfert dʼimplant, couronnes et bridges, inlays et onlays, prothèses partielles et techniques dʼélectrodéposition.

Avantages :

- Rétraction minimale et retouches faciles pour une adaptation et une reproduction parfaites
- Dureté et résistance élevées
- Grande stabilité même pour des couches minces
- Totalement calcinable, pour des surfaces de coulée très propres

10003198

Références spécifiques

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Pattern Resin - Brochure

Brochure Pattern Resin + Stand de GC

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Pattern Resin - Astuces

Trucs et Astuces Pattern Resin + Stand de GC

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Pattern Resin - Sécurité Liquide

Fiche de sécurité liquide Pattern Resin + Stand de GC

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Pattern Resin - Sécurité Poudre

Fiche de sécurité Poudre Pattern Resin + Stand de GC

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